第20次中日韩知识产权局局长会议举行
〖2020/12/5 13:44:34时〗 中国商标专网提供
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新闻来源：国家知识产权局政务微信 信息整理编辑：晨风
2月1日，第20次中日韩知识产权局局长会议以视频形式举行。中国国家知识产权局局长申长雨、日本特许厅长官糟谷敏秀、韩国特许厅厅长金龙来出席会议。三方回顾了一年来中日韩三局知识产权合作项目的开展情况，积极评价了三局合作的进展，就未来三局合作进行了交流，确定了明年的合作计划。
申长雨表示，中日韩三局合作从2001年启动，到现在已经走过了近20年的路程。这期间，三局在专利审查、外观设计、商标、文献数据交换、信息自动化、人员培训和专利复审等多个领域都取得了丰硕的成果。中日韩三国的知识产权合作对推进中日韩区域创新和经贸合作具有重要作用。新冠肺炎疫情暴发以来，中日韩三国抗疫合作为三局知识产权合作增添了新的内涵。希望未来继续深化三局知识产权合作，努力为国际知识产权事务带来积极影响。
糟谷敏秀和金龙来积极评价了新冠肺炎疫情发生以来中日韩三局合作所取得的成果，认为知识产权领域不断深化的合作有效促进了三国经贸关系的发展。
会上，中日韩三局通报了各自国家知识产权工作的最新进展，围绕人力资源发展、商标、复审、外观设计、三国知识产权用户研讨会等内容进行了深入的交流。三局决定，第21次中日韩知识产权局局长会议将于2021年由中国国家知识产权局主办。
会后，三局局长共同签署了《第20次中日韩三局局长会议会谈纪要》。
中日韩三国合作秘书处秘书长道上尚史出席会议并发言。